Photochemischer Reaktor UV-LED-Lampe 100w
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Photochemischer Reaktor UV-LED-Lampe 100w

Photochemischer Reaktor UV-LED-Lampe 100w

Photochemischer Reaktor UV-LED-Lampe 100 W Leistung: 10-200 W Leistungsaufnahme: 100-240 V AC MAX 0,75 A Wellenlänge: 460 nm 254 nm 270 nm 280 nm 290 nm 310 nm 365 nm 470 nm 550 nm 680 nm Anwendung: • photochemische Reaktion • UV-Härtung usw. • Drucken • Beschichten • Klebstoff • Fälschungserkennung/-sicherheit • UV...
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Produkteinführung

 

Photochemischer Reaktor UV-LED-Lampe 100W

Leistung: 10-200W

Leistungsaufnahme: {{0}} V AC MAX 0,75 A

Wellenlänge: 460nm 254nm 270nm 280nm 290nm 310nm 365nm 470nm 550nm 680nm


     Anwendung :

• photochemische Reaktion

• UV-Härtung und so weiter

• Drucken

• Glasur

• Klebstoff

• Fälschungserkennung/Sicherheit

• UV-Taschenlampe

• Fluoreszenzfotografie

• Zahnhärtung

• Kriminalinspektion

• Erkennung von Öllecks


Mehr Bilder:

Photochemischer Reaktor UV-LED-Lampe 100W

Warum uns wählen:

Wir sind das nationale High-Tech-Unternehmen und einer der professionellsten Hersteller, die sich auf HID-Nachrüstprodukte und temporäre Arbeitsleuchten in China konzentrieren. Produkterfahrung über 12 Jahre - LED-Retrofit-Lampen über 6 Jahre - Temporäre Arbeitsscheinwerfer über 2 Jahre - UVC-Lampen


F&E-Kapazitäten Ein leistungsstarkes F&E-Team 60 Ingenieure, 12-15 neue Produkte kommen jedes Jahr heraus. 130 in- und ausländische Patente sind ein großartiger Beweis für unsere Innovation. Alle Produkte werden von uns selbst entworfen und montiert. Unsere eigenen Labors: UL Witnessed Lab, Energy Efficiency Lab und Microbiology Laboratory. Produkt-F&E-Ausgaben 2020: 2 Mio. USD, 2021: Anstieg auf 3,2 Mio. USD.


Markt Hauptsächlich nach Nordamerika, Europa, Australien, Japan und Südkorea usw. exportiert. Produkte sind mit UL, DLC, FCC, TÜV, CE, ROHS, SAA, PSE zugelassen.


Standort der Fabrik Die 2006 gegründete Fabrik befindet sich in Shenzhen, China, mit über 500 Mitarbeitern und einer 25 000 m² großen Fabrikanlage. Zertifiziert nach ISO9001:2015 und ISO14001:2004.


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